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實驗室管道
硫酸霧在線監測預處理係統
技術方案
一、概況
根據貴方提出的實驗室管道硫酸霧監測需求，公司所推出的SK-7500-H2SO4-JSSY型、SK-7500-H2SO4-SSY型硫酸霧在線監測預處理係統可以連續監測硫酸霧，或搭配監測NH3、HCL、HNO3等多項相關(guan) 參數。
硫酸霧在線監測預處理係統是東(dong) 日瀛能科技針對環境中固定汙染源的煙氣、廢氣等氣體(ti) 進行實時在線監測的一種氣體(ti) 檢測產(chan) 品；是集氣體(ti) 采樣、氣體(ti) 過濾、氣體(ti) 降溫除濕、流量控製、實時濃度顯示、無線數據上傳(chuan) 、環保聯網、本地聲光報警、設備聯動等功能為(wei) 一體(ti) 的標準化、模塊化、專(zhuan) 業(ye) 化揮發性rayvet雷竞技係統集成產(chan) 品；產(chan) 品采用專(zhuan) 業(ye) 三防設計，直接戶外使用；硫酸霧在線監測預處理係統經主動采樣、專(zhuan) 業(ye) 樣氣預處理後，將幹淨、幹燥、恒定的樣氣送至rayvet雷竞技表。具體(ti) 反應速度更快、抗幹rao能力更強、測量更精準、壽命長久等特點；無線HJ 212協議數據上傳(chuan) ，可無縫對接當地環保監測平台；因其zhuo越性能和良好表現，不僅(jin) 可以作為(wei) 企業(ye) 內(nei) 的有組織或無組織的氣體(ti) 排放使用，還可以為(wei) 環保監測等部門提供數據決(jue) 策支持。
SK-7500-H2SO4-JSSY 硫酸霧在線監測預處理係統適用於(yu) 常溫（-20℃～+50℃）、高壓、負壓、潮濕、含焦油、含粉塵的監測環境。（根據具體(ti) 工況而定）
SK-7500-H2SO4-SSY 固定汙染源硫酸霧在線監測預處理係統適用於(yu) 高溫（-20℃～+200℃）、高壓、潮濕、含油、含水、含粉塵的惡劣監測環境。（根據具體(ti) 工況而定）
二、執行標準
GB3836.1-2010《爆炸性氣體(ti) 環境用電氣設備 第一部分：通用要求》
GB3836.2-2010《爆炸性氣體(ti) 環境用電氣設備 第二部分：隔爆型“d" 》
GB 3836.15-2000 《爆炸性氣體(ti) 環境用電氣設備第 15 部分：危險場所電氣安裝( 煤礦除外) 》
GBT50493-2019 《石油化工可燃氣體(ti) 和有毒氣體(ti) 檢測報警設計標準》
GB12358-2006 《作業(ye) 場所環境氣體(ti) 檢測報警儀(yi) 通用技術要求》
GBZ 2.1-2007 《工作場所有害因素職業(ye) 接觸限值》
GB 4208-2008 《外殼防護等級（IP 代碼）》
GB 16297－1996《大氣汙染物綜合排放標準》
GB/T 16157-1996《固定汙染源排氣中顆粒物測定與(yu) 氣態汙染物采樣方法》
HJ/T 76-2017《固定汙染源排放煙氣連續監測係統技術要求及檢測方法》
三、設計方案
3.1監測參數
在線監測因子：硫酸霧。
3.2監測方法
采樣方法：泵吸取樣
硫酸霧監測原理：電化學
3.3安裝位置
采樣點：管道
分析儀(yi) 表：壁掛式、地角安裝
3.4公用工程條件
監測設備電源：220VAC 用於(yu) 設備供電。4-20MA、RS485等多種信號輸出，既可方便接入 PLC、DCS、DDC 等工控係統，也可以作為(wei) 單機控製使用；
該裝置為(wei) 機、電、儀(yi) 一體(ti) 化成套分析控製裝置。包含取樣探頭、探頭反吹、取樣管線、預處理單元、機櫃等部分；係統整體(ti) 采用分析機櫃式結構，成套裝置由分析機櫃組件和安裝在工藝管線上的取樣探頭組件構成。（根據具體(ti) 工況而定）
3.5.1分析機櫃組件
分析機櫃內(nei) 包含以下單元：
a.預處理單元
預處理單元由冷凝器、蠕動泵、電磁閥、抽氣泵、減壓閥、精細過濾器、轉子流量計等組成；其功能是完成樣氣的淨化、除塵、穩壓、穩流。最後將符合分析儀(yi) 要求的幹淨、流量穩定的被測樣氣，源源不斷送入分析儀(yi) 器，從(cong) 而確保了分析儀(yi) 器的準確性和長期可靠性。
b.分析單元
分析儀(yi) 采用電化學法對硫酸霧進行測量。
c.控製單元
本係統采取自動取樣、自動反吹等工作方式，可以搭配工廠中的風機、閥門、噴淋係統等設備來使用，通過內(nei) 部開關(guan) 量信號實現聯動。此外，其監測數據還可以通過專(zhuan) 用配套軟件實時接收，並且可以實現多路統一管理以及數量的擴充。存儲(chu) 的數據還可以任意選取時間段進行查詢，曲線顯示，數據EXCEL導出等，使得監測數據一目了然。
SK-7500-H2SO4-JSSY型參考圖
SK-7500-H2SO4-SSY型參考圖
3.5.2氣體(ti) 汙染物采樣器
煙氣氣態汙染物采樣器（以下簡稱取樣探頭）
3.5.3不鏽鋼氣體(ti) 汙染物檢測儀(yi)
名稱 | 不鏽鋼硫酸霧檢測儀(yi) |
型號 | SK/MIC-600-H2SO4-SSY |
檢測原理 | 電化學 |
檢測量程 | H2SO4:0-20mg/m³ |
線性度 | ±1.5%F.S. |
示值誤差 | ≤±3% |
重複性 | <±1%F.S. |
零點漂移 | <±1%F.S. |
量程漂移 | <±1%F.S. |
工作溫度 | -20～50℃ |
響應時間（T90） | <30秒 |
輸出信號 | ①4-20mA信號：標準的12位精度4-20mA輸出芯片，傳(chuan) 輸距離1000m ②RS485信號：采用標準MODBUS RTU協議，傳(chuan) 輸距離1200m ③電壓信號：0.4-2V,0-5V、0-10V輸出，選配（電壓輸出與(yu) 電流輸出二選一） ④開關(guan) 量信號：標配1組無源觸點繼電器，容量220VAC 3A/24VDC 3A ⑤GPRS、4G、WIFI、LORA、ZigBee等無線信號選配 |
接收設備 | 用戶電腦、控製報警器、PLC、DCS、DDC等 |
防護等級 | IP66 防水濺和短時間雨淋 |
3.6係統控製及數據采集係統
3.6.1係統界麵與(yu) 數據儲(chu) 存、導出
在線監控係統是本公司自行開發的針對煙氣、廢氣、尾氣連續監控係統。本係統實時監測從(cong) 分析儀(yi) 傳(chuan) 輸過來的數據，存儲(chu) 到數據庫，可選配顯示當前的排放率、排放總量及係統報表顯示與(yu) 輸出。
可通過485接口采集濃度數據，並實現存儲(chu) 、匯總、報表輸出、向數采儀(yi) 發送數據等功能。
對於(yu) 比較簡單的應用，分析儀(yi) 可以將數據直接通過4-20mA或485發送的PLC/DCS等工控係統。
四、係統配置清單
序號 | 貨品名稱 | 型號規格 | 數量 | 備注 |
1.硫酸霧在線監測預處理係統 | ||||
1.1 | 抽取式預處理機櫃 | 高效過濾器 | 1套 | 一級過濾，過濾少量水汽與(yu) 粉塵 |
采樣泵 | 1套 | 負壓度為(wei) -50KPa | ||
降溫除濕冷凝器 | 1套 | 選配，高效降溫除濕，保持恒定溫濕度 | ||
轉子流量計 | 1套 | 控製流速在0.3～0.5L/Min | ||
漏電開關(guan) | 1套 | |||
24V電源 | 1套 | |||
蠕動泵 | 1套 | 選配，定時排水 | ||
散射風扇 | 2套 | 選配 | ||
節流閥 | 2套 | |||
減壓閥 | 1套 | 高壓時選配 | ||
7寸觸摸顯示屏 | 1套 | 選配，帶曆史數據儲(chu) 存 | ||
標定氣接口 | 1套 | 選配 | ||
反吹電磁閥 | 1套 | 選配 | ||
1.2 | 氣體(ti) 汙染物分析儀(yi) | SK/MIC-600-H2SO4-SSY | 1套 | |
1.3 | 軟管 | ￠6 | ||
1.4 | 伴熱管 | \ | 選配 | |
2.係統控製及數據采集子係統 | ||||
2.1 | 無線傳(chuan) 輸模塊 | \ | 1個(ge) | 選配 |
2.2 | 數采儀(yi) | \ | 1個(ge) | 選配 |
東(dong) 日瀛能可燃氣體(ti) 檢測報警器量程參照法規：
關(guan) 於(yu) 有毒有害氣體(ti) 接觸限值與(yu) 其濃度多少時對人體(ti) 的危害等相關(guan) 問題，請谘詢東(dong) 日瀛能銷售人員。
常用氣體(ti) 選型表
檢測氣體(ti) | 量程 | 允許 誤差值 | 最小讀數 | 響應時間T90 |
可 燃氣(E X) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
可 燃氣(E X) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.1%Vol | ≤10秒 |
甲 烷(C H4) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
甲 烷(C H4) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.1%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-30%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
氧 氣(O 2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氮 氣(N 2) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤10秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-20000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤25秒 |
一氧 化碳(C O) | 0-100000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤25秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-500ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤20秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-50000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-20%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤30秒 |
二氧 化碳(C O 2) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醛(CH 2O) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤45秒 |
臭 氧(O 3) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-5ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
臭 氧(O 3) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
臭 氧(O 3) | 0-30000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
臭 氧(O 3) | 0-20mg/L | ＜±3%(F.S) | 0.01mg/L | ≤30秒 |
臭 氧水(O 3) | 0-20mg/L | ＜±3%(F.S) | 0.01mg/L | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
硫化 氫(H 2S) | 0-10000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤45秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-20ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-500ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化硫(SO 2) | 0-10000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
一氧 化氮(N O) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤25秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤25秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氮(N O 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氮氧 化物(N OX) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-20ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-200ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氯 氣(CL 2) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氨 氣(N H3) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
氫 氣(H 2) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤10秒 |
氫 氣(H 2) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-20000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-40000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氫 氣(H 2) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氦 氣(H e) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氬 氣(A r) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氙 氣(X e) | 0-100%Vol | ＜±3%(F.S) | 0.01%Vol | ≤20秒 |
氰化 氫(H CN) | 0-30ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氰化 氫(H CN) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氯化 氫(H CL) | 0-20ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氯化 氫(H CL) | 0-200ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
磷化 氫(P H3) | 0-5 ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
磷化 氫(P H3) | 0-25 ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
磷化 氫(P H3) | 0-2000 ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二氧 化氯(CLO 2) | 0-200ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
環氧 乙烷(ET O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
環氧 乙烷(ET O) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
環氧 乙烷(ET O) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 1%LEL | ≤30秒 |
光 氣(C OCL 2) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤20秒 |
光 氣(C OCL 2) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤20秒 |
矽 烷(Si H4) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
矽 烷(Si H4) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟 氣(F 2) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟化 氫(H F) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
氟化 氫(H F) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
溴化 氫(HB r) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
(B2 H6) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
砷化 氫(As H3) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
砷化 氫(As H3) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
砷化 氫(As H3) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
鍺 烷(Ge H4) | 0-2ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
鍺 烷(Ge H4) | 0-20ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
聯 氨(N 2 H4) | 0-1ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
聯 氨(N 2 H4) | 0-300ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
四氫 噻吩(TH T) | 0-100mg/m3 | ＜±3%(F.S) | 0.01 mg/m3 | ≤60秒 |
溴 氣(B r2) | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.001ppm | ≤30秒 |
溴 氣(B r2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
溴 氣(B r2) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 炔(C2H 2) | 0-1000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-100%LEL | ＜±3%(F.S) | 0.1%LEL | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 烯(C2 H4) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
乙 醛（C2 H4O） | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 醇(C2 H6O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
乙 醇(C2 H6O) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
甲 醇(C H6O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
甲 醇(C H6O) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
二硫 化碳(C S2) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
二硫 化碳(C S2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
丙烯 腈(C3 H3N) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
丙烯 腈(C3 H3N) | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
甲 胺(C H5N) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
典 氣(I 2) | 0-50ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
苯乙 烯(C8 H8) | 0-200ppm | ＜±3%(F.S) | 0.1ppm | ≤30秒 |
苯乙 烯(C8 H8) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
氯乙 烯(C2H3 CL) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
三氯 乙烯(C2H CL3) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
四氯 乙烯(C2 CL4) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
笑 氣(N 2O) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
三氟 化氮(N F3) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
過氧 化氫(H 2O 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-30000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-200g/m3 | ＜±3%(F.S) | 0.1g/m3 | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-5000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
硫酰 氟(SO 2F 2) | 0-10000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-10ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-100ppm | ＜±3%(F.S) | 0.01ppm | ≤30秒 |
C6 H6 | 0-2000ppm | ＜±3%(F.S) | 1ppm | ≤30秒 |
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